本文標(biāo)題："測(cè)量元件的過(guò)程中所產(chǎn)生的誤差原因-工具顯微鏡"
發(fā)布者：yiyi ------ 分類: 行業(yè)動(dòng)態(tài) ------
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制作元件和測(cè)量元件的過(guò)程中所產(chǎn)生的誤差原因-工具顯微鏡
在活性離子蝕刻方面繞射式光學(xué)元件外型的準(zhǔn)確度會(huì)直接影響
元件的繞射效率的高低。
量測(cè)部分的結(jié)果相互比較有了 10%的誤差，因此我們將探討出在制作元
件和測(cè)量元件的過(guò)程中所產(chǎn)生的誤差所在，其主要的誤差有下列幾
種：
(一)對(duì)準(zhǔn)的誤差--由于我們?cè)谥谱靼穗A微透鏡，需要經(jīng)過(guò) 3 次對(duì)
準(zhǔn)的動(dòng)作，雖然設(shè)計(jì)了大小不同的對(duì)準(zhǔn)記號(hào)，但因?yàn)槠毓鈾C(jī)上的物
鏡放大倍率和焦深不足，使得在對(duì)準(zhǔn)時(shí)無(wú)法同時(shí)看清楚光罩上和基
板上的圖案﹔而且也受限于個(gè)人的技術(shù)問(wèn)題及眼睛的靈敏度等問(wèn)題，都會(huì)造成對(duì)準(zhǔn)上的誤差。
(二)曝光顯影的誤差--將光罩上的圖案轉(zhuǎn)到基板上時(shí)，曝光時(shí)間和顯影時(shí)間均會(huì)影響元件的制作。
如果曝光及顯影的條件過(guò)量或者不足，都會(huì)影響到光阻所形成的線寬和圖案。
(三)蝕刻的誤差--在蝕刻過(guò)程中，蝕刻腔體內(nèi)氣壓的穩(wěn)定度、氣
體流量的穩(wěn)定度、或是無(wú)線電頻率之交流電功率的震盪起伏以及基
板與光阻的蝕刻速率比的穩(wěn)定度等條件，都會(huì)影響到元件的品質(zhì)
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