本文標題："電子成像到屏幕上并將電子圖像轉換成可見光圖像"
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將發射的電子成像到屏幕上并將電子圖像轉換成可見光圖像
光電發射電子顯微鏡(photoenlission electron microscope, PEEMI)是用
電子透鏡直接將發射的電子成像到一個屏幕上并將電子圖像轉換成可見光圖像.
第一臺PEEM的發明要追溯到20世紀30年代，伴隨著電子透鏡和所謂的發射顯微方法
的建立.Bruclle等于1932年以Uv為光源得到了從金屬發射的光電子的圖像(194]
其主要的設計理念沿用至今.八九十年代，Renlpfer等改進了電子光學系統，其結
構類似于低能電子顯微鏡(low energy electron microscope, LEENI).這種技術的改
進得益于幾個相關領域技術方面的突破，其中包括制備超高真空配件的材料質量
的提高、表面敏感的結構和化學分析方法(特別是光電子能譜)的發明和發展、圖
像增強劑和電子/光子探測器的快速發展、大功率低發射度同步輻射光源的建設等.
目前利用Uv光源的電子發射顯微鏡可以實現
:以下的空間分辨，利用X射
線可以實現幾十納米的空間分辨，實際的目標己經接近發射顯微方法在能量分辨和
空間分辨上的物理極限1195,1961，空間分辨即指低能電子的平均自由程.而基于同步
輻射的高亮度、波長可調以及偏振性而發展起來的PEENI則進一步克服了以往基
于常規真空紫外和X射線光源的光電子顯微術非元素靈敏的缺陷，從而為研究表
面與界面的化學特性與磁性等提供了前所未有的機遇.但PEEM技術不僅限于表
面和薄膜的研究，近年來也已經擴展到生物學,醫藥學、地質學等新領
域，特別是在磁性材料的研究中己經發揮了重要的作用.
在對亞微米甚至納米尺度表面過程研究興趣的驅動下，PEEM的應川日益廣
泛，第三代同步輻射光源基本都建有專用的儀器設備.通過利用X射線吸收技術
以及與線二色(linear dichroisln, LD)和圓二色(circular dichroism, CD)的結合，
PEEM己經成為對表面、薄膜以及界面磁性態成像的主要技術.
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